半导体刻蚀概念股有:
石英股份603688:
从近三年ROE来看,近三年ROE均值为10.91%,过去三年ROE最低为2018年的10.56%,最高为2019年的11.31%。
中微公司688012:
从近三年ROE来看,近三年ROE均值为8.77%,过去三年ROE最低为2019年的6.71%,最高为2020年的12.11%。
全球半导体刻蚀和薄膜沉积设备新星,MOCVD设备市占率高达60%,台积电先进制程刻蚀设备供应商之一。
神工股份688233:
从近三年ROE来看,近三年ROE均值为24.51%,过去三年ROE最低为2020年的9.62%,最高为2018年的41.76%。
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