薄膜沉积设备概念股有:
北方华创002371:
从近三年ROE来看,近三年ROE均值为7.78%,过去三年ROE最低为2018年的6.83%,最高为2020年的8.51%。
国产半导体设备的绝对龙头,平台属性强。体量大;研发实力强属于国内一线;市占率领先,刻蚀设备国内市占率7%。产品线丰富,产品涵盖热处理、刻蚀、薄膜沉积(PVD、CVD)、清洗等设备。硅片设备-热处理设备-光刻设备-刻蚀设备-离子注入设备-薄膜沉积设备-抛光设备-清洗设备-检测设备
中微公司688012:
从近三年ROE来看,近三年ROE均值为8.77%,过去三年ROE最低为2019年的6.71%,最高为2020年的12.11%。
全球半导体刻蚀和薄膜沉积设备新星,MOCVD设备市占率高达60%,台积电先进制程刻蚀设备供应商之一。
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