光刻胶概念有哪些?
南大光电300346、容大感光300576、上海新阳300236、强力新材300429、江化微603078、光华科技002741、金龙机电300032、晶瑞股份300655、飞凯材料300398、广信材料300537、怡达股份300721、宝通科技300031、西陇科学002584、同益股份300538、永太科技002326、捷捷微电300623、爱司凯300521、苏大维格300331、芯源微688037。
以下是部分企业的详细介绍:
1、南大光电
凭借30多年来的技术积累优势,公司先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目,填补了多项国内空白。2017年,南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。
2、容大感光
公司注重知识产权的培育和发展,至今已获得的国家发明专利和已被受理的国家发明专利近20项。为了更好的利用强大的外部资源、提升自身的研发能力,公司十分注重与科研院所的产学研合作,在2008年与北京师范大学联合成立了国内首家“光刻材料联合实验室”。
3、上海新阳
公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nmArF光刻胶及配套材料与应用技术,拥有完整自主可控知识产权的高端光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术,公司在国内半导体功能性化学材料领域的领先地位将更加稳固。