CMP上市公司有哪些，CMP上市公司名单

周一盘后简讯，CMP概念报涨，三超新材（5.22%）领涨，凯盛科技、江丰电子、安集科技等跟涨。CMP上市公司有：

1、三超新材：

从近五年ROE来看，近五年ROE均值为10.86%，过去五年ROE最低为2019年的1.97%。

公司的半导体CMP-Disk已经交付客户样品等待测试。成立半导体子公司是为了把公司原有的半导体相关的产品剥离开来，产品包括软刀、硬刀（划片刀）、CMP-Disk、倒角砂轮、激光切割保护液和划片液等。

2、凯盛科技：

从近五年ROE来看，近五年ROE均值为3.42%。

3、江丰电子：

从近五年ROE来看，近五年ROE均值为14.6%，过去五年ROE最低为2019年的9.95%，最高为2016年的20.96%。

积极布局CMP部件领域，公司2016年联合美国嘉柏微电子材料，就抛光垫项目进行合作，2018年公司取得基于抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统的发明专利。

4、安集科技：

从近五年ROE来看，近五年ROE均值为16.91%，最高为2016年的29.26%。

公司作为项目责任单位完成了“90-65nm集成电路关键抛光材料研究与产业化”和“45-28nm集成电路关键抛光材料研发与产业化”两个国家“02专项”项目，目前作为课题单位负责“高密度封装TSV抛光液和清洗液研发与产业化”和“CMP抛光液及配套材料技术平台和产品系列”两个国家“02专项”项目。

5、鼎龙股份：

从近五年ROE来看，近五年ROE均值为5.47%，过去五年ROE最低为2020年的-4.39%，最高为2016年的12.85%。

公司拟新建集成电路CMP用抛光垫项目（三期）及年产1万吨集成电路制造清洗液项目。计划投资合计5.67亿元。本次投资资金来源为公司自有或自筹资金。前者产能为年产50万片CMP用抛光垫生产能力。先进制程的高端清洗液绝大多数掌握在两家美国公司手中，公司拟实施CMP后清洗液和光刻胶蚀刻后清洗液项目的产业化，将有效解决国内该系列产品严重依赖海外进口的卡脖子问题。

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