薄膜沉积设备概念股2023年有:
中微公司:全球半导体刻蚀和薄膜沉积设备新星,MOCVD设备市占率高达60%,台积电先进制程刻蚀设备供应商之一。
10月13日该股主力净流入5434.98万元,超大单净流入1818.08万元,大单净流入3616.9万元,中单净流出1922.38万元,散户净流出3512.6万元。
中微公司从近三年扣非净利润复合增长来看,近三年扣非净利润复合增长为527.92%,过去三年扣非净利润最低为2020年的2331.94万元,最高为2022年的9.19亿元。
万业企业:子公司嘉芯半导体多次中标多款设备。包含快速热处理(RTP)、氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机、高密度等离子薄膜沉积设备(HDP-CVD)、二氧化硅等离子薄膜沉积设备(PECVD)、铝铜金属溅射设备(PVD)、掺杂硼磷二氧化硅薄膜化学沉积设备(SACVD)以及钛/氮化钛沉积设备(MOCVD)等。
10月13日消息,资金净流出888.3万元,超大单资金净流出604.66万元,成交金额1.7亿元。
从近三年扣非净利润复合增长来看,公司近三年扣非净利润复合增长为12.81%,过去三年扣非净利润最低为2021年的2.33亿元,最高为2022年的3.2亿元。
微导纳米:公司已开发出适用于光伏、半导体等应用领域的多款薄膜沉积设备,涵盖ALD、PEALD二合一、PECVD系列产品,并提供配套产品及服务。公司夸父(KF)系列设备在光伏领域PERC电池中的Al2O3工艺和SiNX工艺、TOPCon电池正面Al2O3工艺均已实现产业化应用。公司祝融(ZR)系列产品集成了PEALD与PECVD技术,在PERC电池、TOPCon电池中均已实现产业化应用。在PERC电池中,客户可以在同一设备中采用两种不同技术完成对PERC电池背面Al2O3和SiNX的沉积;在TOPCon电池中,客户在同一设备中可连续完成对TOPCon电池超薄SiOX隧穿层和掺杂多晶硅薄膜的制备。公司在行业中已率先取得无锡尚德、通威太阳能、晶科能源、商洛比亚迪等公司TOPCon产线设备订单。
资金流向数据方面,10月13日主力资金净流流出1228.27万元,超大单资金净流出995.5万元,大单资金净流出232.77万元,散户资金净流出4.18万元。
从微导纳米近三年扣非净利润复合增长来看,近三年扣非净利润复合增长为-37.67%,过去三年扣非净利润最低为2022年的1980.63万元,最高为2020年的5098.54万元。
盛美上海:
10月13日消息,盛美上海10月13日主力资金净流出2056.91万元,超大单资金净流出910.85万元,大单资金净流出1146.06万元,散户资金净流入1474.6万元。
盛美上海从近三年扣非净利润复合增长来看,近三年扣非净利润复合增长为173.19%,过去三年扣非净利润最低为2020年的9243.78万元,最高为2022年的6.9亿元。
拓荆科技:2022年3月29日招股书显示拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。
10月13日该股主力资金净流入1019.17万元,超大单资金净流入3188.34万元,大单资金净流出2169.17万元,中单资金净流出832.73万元,散户资金净流出186.44万元。
从近三年扣非净利润复合增长来看,过去三年扣非净利润最低为2021年的-8200.19万元,最高为2022年的1.78亿元。
捷佳伟创:
10月13日消息,资金净流出1759.24万元,超大单资金净流出208.13万元,成交金额3.08亿元。
从近三年扣非净利润复合增长来看,捷佳伟创近三年扣非净利润复合增长为43.61%,过去三年扣非净利润最低为2020年的4.71亿元,最高为2022年的9.71亿元。
数据仅供参考,不构成投资建议,据此操作,风险自担,股市有风险,投资需谨慎。