半导体刻蚀概念股有:
1、中微公司:
从近五年ROE来看,近五年ROE均值为8.77%,过去五年ROE最低为2019年的6.71%,最高为2020年的12.11%。
全球半导体刻蚀和薄膜沉积设备新星,MOCVD设备市占率高达60%,台积电先进制程刻蚀设备供应商之一。
2、北方华创:
从近五年ROE来看,近五年ROE均值为6.16%,最高为2020年的8.51%。
3、芯源微:
从近五年ROE来看,近五年ROE均值为10.59%,过去五年ROE最低为2016年的3.43%,最高为2017年的15.91%。
4、石英股份:
从近五年ROE来看,近五年ROE均值为9.67%,过去五年ROE最低为2016年的6.93%,最高为2019年的11.31%。
5、神工股份:
从近五年ROE来看,近五年ROE均值为25.24%,过去五年ROE最低为2020年的9.62%,最高为2018年的41.76%。
本文选取数据仅作为参考,并不能全面、准确地反映任何一家企业的未来,并不构成投资建议,据此操作,风险自担。