1月11日午盘分析,光刻胶概念报涨,赛微电子领涨,光华科技、万润股份、芯源微、晶方科技等跟涨。
据南方财富网数据显示,光刻胶相关概念股有:
(1)、赛微电子:公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。
(2)、光华科技:2019年9月25日公司在互动平台称:子公司有正常生产销售光刻胶。
(3)、万润股份:公司积极布局电子化学品领域的聚酰亚胺材料、光刻胶单体材料,进一步丰富公司信息材料产业产品线,为未来发展积蓄动能。公司已有聚酰亚胺材料和光刻胶单体材料相关产品实现销售,相关业务尚处于拓展初期,截止目前对公司业绩不构成重大影响。
(4)、晶方科技:荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。
(5)、捷捷微电:2019年7月26日互动平台回复公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利,以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置”。
(6)、上海新阳:公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。
(7)、安集科技:根据光刻胶下游应用领域不同,公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。公司产品光刻胶去除剂是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品。光刻胶去除剂一般由去除剂、溶剂、螯合剂、缓蚀剂等组成,其中关键是去除剂和溶剂的选择,从而获得优异的交联光刻胶聚合物的去除;螯合剂及缓蚀剂等添加剂提供金属及非金属基材分子级、原子级保护,并进行光刻胶残留物选择性去除。公司光刻胶去除剂的核心技术包括光阻清洗中金属防腐蚀技术、光刻胶残留物去除技术。
数据仅参考,不构成投资建议,据此操作,风险自担。

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